Intel、65ナノプロセスでチップ製造(ZDNet)

http://www.zdnet.co.jp/news/0311/25/nebt_23.html
65nmのSRAM Tegの評価が終了した模様です。歪みシリコンとlow-k層間絶縁膜を利用するそうです。SOIもメタルゲートも使用しないそうなので、Pentium4のアーキテクチャをそのまま踏襲するので有れば、Prescotto同様熱で苦しむと思われます。